氧化硅抛光液的主要成分是高纯二氧化硅粉为，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光液。氧化硅溶液其实就是市面上的硅溶胶，当然是二次加工后的硅溶胶。因为硅溶胶是胶状的，不能直接研磨抛光。这项技术的主要应用是CMP半导体抛光。该技术在相对早期阶段就已存在，但市场应用范围较窄。

       氧化硅外观为乳白色悬浮液，呈碱性、中性、酸性。一般时间长了不会有沉淀，但是暴露在空气中很快就会结晶，有一定的腐蚀性。不锈钢工件在二氧化硅环境中容易生锈，抛光工件时应及时清洗掉二氧化硅溶液。

       二氧化硅抛光液主要运用在什么领域呢？现在抛光不锈钢、半导体、铝合金、铜等工件时用到氧化硅抛光液的机会还是很多的。原理主要是二氧化硅的表面积比较大，并且是一种软性抛光材料，去除率快抛磨亮度高，不会对工件造成二次划伤。

       氧化硅抛光液如何保存？氧化硅怕光怕热，在光性和高温环境下容易变质和结晶，产生异味、沉淀或者漂浮物，所以硅溶胶浆料是有保质期的，需要避光存放并在一年内使用完，存储不当或逾期使用会对工件和机台造成损伤。

吉致电子专业生产CMP抛光产品，氧化硅抛光液有成熟稳定的产品，可使用在金属或非金属工件的抛光工序中，有抛光相关问题欢迎咨询：17706168670 专业团队24小时为您服务！

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