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[行业资讯]氮化铝/氮化硅（AlN/SiN）陶瓷基板的研磨抛光[ 2024-01-10 11:33 ]: 氮化铝/氮化硅（AlN/SiN）陶瓷基板的研磨抛光，需要用粗抛和精抛两道工艺。粗抛液用来研磨快速去除表面缺陷和不良，精细抛光液用来平坦工件表面提升精度。吉致电子陶瓷专用研磨液/抛光液能减少研磨时间，同时提高陶瓷工件抛光的质量，帮助客户缩短工时提高工作效率。陶瓷基板的研磨过程一般包括双面研磨（35-60分钟）和精细抛光（120分钟）。在不到2.5小时的时间里，得到10-15纳米的Ra。氮化铝/氮化硅散热衬底抛光方案：①双面研磨（35-60分钟）搭配吉致电子类多晶研磨液 ②超精细抛; http://www.fuji1995.com/Article/dhldhgalns_1.html

[应用案例]智能手表不锈钢后盖抛光[ 2023-08-18 10:43 ]: 智能手表后盖不锈钢抛光，需要用到CMP工艺的粗抛和精抛。搭配吉致电子抛光液和抛光垫使用可以获得完美无痕的镜面效果。工件原件为不锈钢材质，抛光前有明显的纹路，原始件抛磨面是带弧度的形态，与常见的平面抛光不同，曲面弧面抛光要设计不同规格沟槽及复合不同缓冲材质的抛光垫，通过不同成分的抛光液对弧面表面进行处理，以去除氧化层、污物和划痕。不锈钢粗抛液一般使用氧化铝抛光液，快速去除表面杂质和冲压纹。不锈钢精抛会使用到吉致电子氧化硅抛光液镜面细抛，使不锈钢曲面没有水波纹、划痕和和擦伤，可以清晰的倒影出环境的影像。314/316/; http://www.fuji1995.com/Article/znsbbxghgp_1.html

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