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吉致电子抛光材料 源头厂家
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[应用案例]吉致电子--CMP不锈钢表面快速抛光[ 2023-12-18 17:58 ]
不锈钢获取高质量的镜面的传统工艺主要采用的抛光技术:电解抛光、化学抛光和机械抛光。随着对镜面不锈钢表面质量要求的不断提高,同时为了提高抛光效率,新型不锈钢抛光工艺----CMP化学机械抛光 被广泛应用。吉致电子针对不锈钢表面镜面处理,配制组成的CMP抛光液,通过化学溶液提高不锈钢表面活性,同时进行高速的机械抛光,用来消除表面凹凸而获得更高质量的光洁镜面。CMP化学机械抛光对环境污染最小,不锈钢镜面抛光质量最好,快速有效降低原始工件表面粗糙度,经过粗抛和精抛工艺能达到镜面效果,无划伤、无凹坑、无麻点橘皮。根据金属的种
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[行业资讯]吉致电子手机中框抛光液及智能穿戴设备表面处理[ 2023-10-27 17:22 ]
手机中框、智能穿戴设备表面处理,有抛光、喷砂等工艺。吉致电子3C产品专用抛光液及抛光耗材,速率快效果好。手机中框对于镜面抛光要求非常高,需要达到镜面效果,钛合金相比其他铝合金、不锈钢等金属是相对较硬的材质手机中框镜面抛光可以用氧化铝抛光液搭配抛光皮达到一个高亮面的效果,其效果可达到:1.悬浮性好,不易沉淀;2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致 的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一,程度提升抛光速率的同时降低微
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[应用案例]氧化铝陶瓷抛光液镜面抛光[ 2023-10-20 16:16 ]
  氧化铝陶瓷片的表面抛光具有一定难度,原因有两个,一是氧化铝材质硬度较高,难以研磨。其二,氧化铝陶瓷表面吸光性较强,普通抛光难以达到镜面效果。这就使得氧化铝陶瓷抛光的难度无限扩大,针对这些加工难点,吉致电子已经具备成熟的抛光工艺和产品,有完善的氧化铝陶瓷抛光方案。  客户的氧化铝陶瓷片,要求做镜面加工。抛光氧化铝陶瓷都是采用铁盘开粗,然后用白布抛光,但是这种效率非常慢,白布抛光要耗费30-40分钟后才能达到镜面,效率太低是批量加工无法接受的。吉致电子CMP抛光液和抛光垫结合,可以快速磨抛氧化铝
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[行业资讯]蓝宝石衬底研磨用什么抛光液[ 2023-08-25 13:36 ]
  CMP工艺怎么研磨蓝宝石衬底?需要搭配什么抛光液?蓝宝石抛光万能公式:粗抛、中抛、精抛,每道工序使用不同磨料的抛光液和抛光PAD:①蓝宝石CMP粗磨:蓝宝石衬底粗磨可以选择硬度高切削力强的吉致金刚石研磨液,搭配金刚石磨盘,速率高效果好可有效去除蓝宝石表面的不平和划痕。②蓝宝石CMP中抛:这一步可以用铜盘+小粒径的金刚石研磨液,用来去除粗抛留下的纹路,为镜面抛光做前期准备。③蓝宝石CMP精抛:CMP精抛是蓝宝石衬底最后一道工序,需要用到抛光垫+纳米氧化硅抛光液来收光,呈现平坦无暇的镜面效果。 
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[常见问题]二氧化硅抛光液与硅溶胶抛光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]
  二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺制备成的一种低金属离子高纯度CMP抛光产品。 硅溶胶抛光液是以液体形式存在,直径为10-150nm的二氧化硅粒子(分散相)在水或有机液体(分散介质)里的分散体系,粒子的形貌多为球形,适用于各类工件的镜面抛光,如金属、蓝宝石衬底、半导体、光学玻璃、精密电子元器件等的镜面抛光。 本质上讲二氧化硅抛光液、硅溶胶抛光液都是一种东西,主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨抛光工艺中,机器通过压力泵把氧化硅抛光液输送到抛光槽内进行循环使用,
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[应用案例]硬质合金抛光液--镜面抛光钨钢刀片[ 2023-04-14 15:01 ]
   硬质合金刀片具有硬度高、韧性较好、耐热、耐腐蚀等一系列优良性能,特别是它的高硬度和耐磨性,在1000℃时仍保持较高的硬度。硬质合金钨钢工件对于很多抛光工艺来说属于比较难加工的一种材质。钨钢刀片抛光目前可通过CMP化学机械抛光工艺,搭配金属专用抛光液达到理想的表面光洁度。  硬质合金刀片又叫钨钢刀片,原始件表面有锈斑、划痕和麻点等不良现象,要解决这些问题需通过平面研磨机配合吉致电子硬质合金研磨液、研磨垫、研磨盘等达到镜面效果。  硬质合金的CMP机械化学镜面抛光,经过粗抛
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[常见问题]不锈钢工件原始品质对CMP抛光效果的影响[ 2023-02-16 15:22 ]
  不锈钢镜面抛光效果的优良,不仅取决于抛光方案设计、抛光耗材(CMP抛光液、抛光垫)选择和抛光参数设置,不锈钢抛光工件的原始品质也影响到最终的抛光的效果。当抛光效果不尽人意时,不仅要对抛光方案、所使用耗材的品质进行评估和优化,同时对于工件的质量也要有所考虑。  不锈钢工件品质对CMP抛光工艺的影响1.优质的的不锈钢工件是获得良好抛光质量的前提条件,工件表面硬度不均或特性上有差异都会对抛光产生一定的困难。金属工件中的夹杂物和气孔都是影响抛光的不利因素。2.电火花加工后的金属表面难以研磨,若未在加
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[吉致动态]硅溶胶研磨液--精密工件镜面抛光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]
  吉致电子硅溶胶研磨液/抛光液采用的是纳米级工艺,主要粒径在10-150nm。适用于各种材质工件的CMP表面镜面处理。以硅溶胶浆料为镜面的平面研磨的材料有半导体晶圆、光学玻璃、3C电子金属元件、蓝宝石衬底、LED显示屏等高精密元件。  硅溶胶抛光液也称二氧化硅抛光液、氧化硅精抛液,SiO2是硅溶胶的化学名,适用范围已扩展到半导体产品的CMP抛光工艺中。  CMP抛光机可以将氧化硅研磨液循环引入磨盘,同时起到润滑和冷却的作用,通过抛光液和抛光垫组合抛磨可以使工件表面粗糙度达到0.2um
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[应用案例]铝合金抛光液--铝质工件镜面抛光[ 2022-12-29 10:44 ]
  铝合金地较软,硬度低,因此在加工成型过程中极易产生机械损伤造成划痕、磨损等表面缺陷,同时易发生腐蚀,表面的化学稳定性差。为了消除加工过程中的缺陷,通常采用CMP化学机械抛光方法,以期获得良好的表面光洁度。  随着高新技术的发展,吉致电子铝合金抛光液已经有成熟的技术支持,可以实现对CMP抛磨材料极高精度、近乎无缺陷的超精密平面化加工。CMP可以真正使铝合金衬底实现全局平面化,得到近似完美的表面和极低的表面粗超度,且大大提高了生产率,降低了生产成本。铝合金工件加工的表面均匀一致性好、近乎无表面损
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[常见问题]3C镜面抛光液用什么抛光液[ 2022-12-09 16:18 ]
  3C产品表面镜面抛光一般不采用电解抛光方式,而是选择CMP机械抛光工艺。SiO2抛光液用于3C工件的镜面抛光工艺,主要由纳米级磨料制备而成,规格一般在10nm-150nm抛光后的产品镜面精度高,表面收光细腻。  氧化硅精抛液进行精抛工艺后,工件可以从雾面提升到镜面透亮的效果。抛光液配合精抛皮使用,镜面效果检测可达纳米级。3C金属抛光液用于镜面要求较高的工件抛光,因此必须做好前道工序。先粗抛打好基础,再精抛去除缺陷和不良效果。  有客户使用二氧化硅抛光液后工件表面会产生麻点,这是由于
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[应用案例]吉致电子金属抛光液---Apple Logo镜面抛光[ 2022-11-11 17:21 ]
Apple Logo非常有质感,其闪闪发光的镜面效果展现出苹果品牌的魅力与审美。一个完美苹果LOGO的诞生需要经过化学机械抛光工艺的抛磨,CMP工艺抛出的光洁度更高,效率更稳定,保证良品率的同时也为品牌塑造更好的形象。Apple Logo采用的是6063铝合金材质/不锈钢材质,进行CNC切割成LOGO形状,然后通过平面抛光机进行抛光,采用复合型粗抛垫和CMP抛光液进行粗抛平整化,最后通过采用阻尼布精抛垫加精抛液抛磨,达到完美的镜面效果。吉致电子为苹果LOGO定制的金属抛光液,工艺为粗磨,中磨,精抛。抛光速率快,光洁
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[吉致动态]吉致电子--不锈钢工件的研磨抛光工序[ 2022-11-08 10:54 ]
不锈钢抛光液CMP抛光液,主要应用于不锈钢工件表面研磨抛光工艺,不锈钢抛光液一般有去粗、粗抛、中抛、精抛镜面四道流程。去粗工艺:不锈钢抛光液用较粗磨料配方液先去除表面刀痕、毛刺,切割线等痕迹,研磨去除部分余料;的粗抛工艺:研磨移除划痕和刀痕,提高表面平整度;中抛工艺:进阶抛光划痕、麻点,抛光雾面,不锈钢中抛液提高不锈钢工件表面亮度。精抛镜面抛光:用不锈钢精抛液精细化抛磨,保持工件表面的亮度升级亮度反光度,不锈钢表面达到反光镜面。吉致电子CMP手机钛合金件研磨抛光液/铝合金件研磨抛光液/镁合金件研磨抛光液/不锈钢研磨
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[吉致动态]不锈钢抛光液的CMP镜面抛光[ 2022-11-04 16:11 ]
  手机、电脑、平板电脑等移动终端设备,会用到不锈钢、钛合金、铝合金等金属材质,为了达到增强光泽度和平坦度,金属手机工件需要Logo抛光、摄像头保护件抛光、手机按键抛光、手机边框抛光等工艺流程。目前3C电子设备用到最多的抛光方式为CMP抛光工艺,最常用的金属抛光液--不锈钢抛光液。  吉致电子不锈钢抛光液针对这些不锈钢工件的抛光设计而成,适用于抛光304、316和316L等不锈钢材料。可用于不锈钢件的粗抛、中抛和精抛工艺,以达到镜面效果。不锈钢抛光液经过特殊配方调配,化学抛光作用温和,对机台和工
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[行业资讯]金属手机边框的镜面抛光方法是什么?[ 2022-10-31 16:01 ]
  手机金属外壳/手机边框材质一般为不锈钢、钛合金、铝合金等,如华为\Iphone手机金属边框要达到完美的镜面效果需要精抛步骤----手机镜面抛光液slurry的主要成份是二氧化硅,二氧化硅抛光液外观为乳白色,呈悬浮液状态,在抛光过程中起到收光磨料的作用。  金属手机精抛液的主要技术要求是什么呢?①镜面抛光液PH值的选择:PH值高低很可能会影响到最终的抛光效果,高低差别会导致手机金属工件发黑氧化,以及麻点和起雾,所以如何控制PH值非常重要。②镜面抛光液磨粒大小的选择:氧化硅磨料颗粒大小,直接影响
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[行业资讯]氧化铝抛光液在蓝宝石窗口中的应用[ 2022-09-23 15:36 ]
  α -氧化铝(Al2O3)是众多氧化铝晶相中的最稳定的晶体相,它由其他晶相的氧化铝在高温下转变而成,是天然氧化物晶体中硬度最高的物质,硬度仅次于金刚石,远远大于二氧化硅溶胶颗粒,它是一种常用的抛光用磨料,被广泛用于许多硬质材料的抛光上。应用于CMP抛光液制备中,常用于在蓝宝石窗口的镜面抛光工艺中。 α -氧化铝(Al2O3)其实与蓝宝石是同一种物质或材料,材料结构中的原子排列模式完全相同,区别在于多晶体与单晶体。因此,从硬度上讲α-氧化铝(Al2O3)纳米粉体与蓝宝石晶体的硬度相当,可以用于
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[常见问题]不锈钢抛光液如何达到镜面效果[ 2022-08-18 14:29 ]
  在金属表面处理过程中,不锈钢平面抛光达到镜面效果是最常见的要求,要求也各不相同。如果想达到高质量的抛光效果,最重要的是要有专业的平面磨抛机、优质抛光耗材(抛光液、抛光垫)和相应的配套抛光方案,以及熟练的操作人员。不锈钢抛光程序取决于工件毛坯的粗糙度,如机加工,电火花,磨削,铸造等产生的凹坑、毛刺、划痕、麻点等问题。  吉致电子小编带您了解一下什么是不锈钢镜面抛光。要达到不锈钢工件抛光的镜面效果,一般分为粗抛、中抛、精抛三个步骤。粗抛:又叫“开粗”,主要是通过研磨抛光机
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[吉致动态]镜面抛光液---氧化硅抛光液在抛光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]
镜面抛光液的主要材料是纳米二氧化硅磨料,制备成的液体浆料也称为硅溶胶抛光液。二氧化硅抛光液主要适用于抛光蓝宝石衬底、硅片、半导体、精密电子工件、晶体等产品。二氧化硅抛光浆料主要利用硅胶离子的高速抛光来达到表面处理的效果。二氧化硅是用纳米技术制成的。根据工件抛磨要求,可制备出不同切削力的产品达到镜面抛光。粒度控制可以有效减少电子工件上的污垢,使用纳米级硅胶颗粒加工工件,不会损伤工件,同时还能达到理想效果氧化硅抛光液需要配合精抛垫使用,精抛垫的主要成分是聚氨酯,聚氨酯的众多孔隙可以将抛光液均匀地粘在其表面,与工件一起研
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[行业资讯]铝合金抛光液配方是什么[ 2022-07-12 12:24 ]
  铝合金抛光液配方是什么?铝材镜面抛光用什么研磨液呢?  铝材硬度相对来说较软,软质金属是不建议用金刚研进行抛磨的,表面会造成很大的刮痕。那么铝合金抛光用什么抛光液呢?铝材工件镜面抛光一般有粗抛和精抛两次抛光步骤。当然铝合金抛光液的配液方法在行业中难度较大,对工件镜面要求非常高的企业比如富士康,还是依赖日本进口抛光液产品,价格非常昂贵。  随着国内CMP技术发展和不断研发,正逐步缩小与国际技术的差距,吉致电子铝合金抛光剂以分级后的磨料微粉为原料,颗粒经表面改性处理,按特殊化学配方充分
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[行业资讯]吉致资讯第124期 陶瓷镜面抛光工艺[ 2017-11-02 10:08 ]
陶瓷工艺品有着光鲜靓丽的外表,很多人深深被这它的艺术性所吸引,那么这种效果是如何实现的呢?让小编慢慢为您揭晓它的抛光工艺:1、研磨工序:研磨的目的是为了获得平整光滑的磨面,研磨分为粗磨和精磨两种:(1)粗磨:是将粗糙的表面和不规则外形修正成行。(2)精磨:经过粗磨后金属表面尚有很深的磨迹,需要在细磨中消除,为抛光做准备。2、镜面抛光工序:抛光工序是为了获得光亮似镜的表面加工过程,多数采用抛光轮来反复磨光后的无件表面上微小的不平,通用于镀层表面的装饰。抛光是镀层表面或无件表面后一道工序,其目的是要消除=在磨光工序
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